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納糯三維科技(上海)有限公司 PPGT2|Quantum X系列|雙光子微納激光直寫系統(tǒng)|雙光子微納光刻系統(tǒng)
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Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司,并于2021年加入國際生物公司BICO,.此次戰(zhàn)略合并鞏固了其在高精度微納加工領域的地位。作為基于雙光子聚合技術( 2PP) 的微納加工領域市場先進人物,Nanoscribe 在全球 30 多個**擁有各科領域的客戶群體, 在全球先進大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案?;?PP 微納加工技術方面的知識,Nanoscribe為先進科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展。

納糯三維科技(上海)有限公司公司簡介

嘉定區(qū)科研微納3D打印哪家強 納糯三維科技供應

2025-11-08 00:13:30

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,在面積達25cm?的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席**官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準?!半m然QuantumX已經通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產?!奔{糯三維深耕微納3D打印領域,若有疑惑,立即咨詢獲取專業(yè)解答。嘉定區(qū)科研微納3D打印哪家強

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。嘉定區(qū)科研微納3D打印哪家強通過多材料混合打印,可一次性成型具有梯度特性的微納復合器件。

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請**。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達**的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計。科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組(B-PHOT)的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(2PP)將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場,以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。微納3D打印,讓微小零件的定制化生產變得簡單、高效且成本可控。

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請**。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現同步進行,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內可產生簡單和復雜的光學形狀,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,以及本質上為準連續(xù)的形貌,可以在一個步驟中完成打印,而不需要多步光刻或多塊掩模制造。在生物**領域,微納3D打印可定制仿生支架、微針陣列等精密**器械。虹口區(qū)灰度光刻微納3D打印哪家強

高分辨率材料堆疊是微納3D打印的重要優(yōu)勢。嘉定區(qū)科研微納3D打印哪家強

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執(zhí)行器是至關重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現不同參數的創(chuàng)新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度。嘉定區(qū)科研微納3D打印哪家強

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