3nm 先進(jìn)半導(dǎo)體制程對配套材料的性能要求達(dá)到新高度，電子氟化液作為溫控和清洗介質(zhì)，必須適配更嚴(yán)苛的工藝標(biāo)準(zhǔn)，油邦手電子氟化液系列完全滿足這一要求。該電子氟化液的金屬雜質(zhì)含量 < 1ppt，達(dá)到超高純度標(biāo)準(zhǔn)，避免了雜質(zhì)污染晶圓；在光刻環(huán)節(jié)控溫精度 ±0.05℃，蝕刻環(huán)節(jié)晶圓溫度波動 250℃，能適配化工反應(yīng)器 - 20℃至 150℃的工作溫度區(qū)間，即使在反應(yīng)器升溫、降溫的劇烈變化中，也能保持穩(wěn)定的控溫性能。電子氟化液的化學(xué)惰性確保了不會與反應(yīng)器內(nèi)的化工原料發(fā)生反應(yīng)，且無殘留、不污染產(chǎn)物，同時熱傳導(dǎo)效率高，能快速響應(yīng)反應(yīng)器的溫度調(diào)節(jié)需求，讓電子氟化液成為化工控溫的可靠介質(zhì)。油邦手電子氟化液無色無味無刺激，操作人員使用更**，提升作業(yè)環(huán)境舒適度。

半導(dǎo)體蝕刻環(huán)節(jié)的溫度波動會直接影響晶圓加工精度，電子氟化液成為該環(huán)節(jié)溫控的選擇，油邦手電子氟化液系列能滿足蝕刻工藝的溫度要求。在干法刻蝕環(huán)節(jié)，電子氟化液需將刻蝕腔體溫度控制在 15-40℃，控溫精度 ±0.1℃，同時將晶圓溫度波動控制在