國瑞熱控氮化鋁陶瓷加熱盤以 99.5% 高純氮化鋁為基材，通過干壓成型與 1800℃高溫?zé)Y(jié)工藝制成，完美適配半導(dǎo)體高溫工藝需求。其熱導(dǎo)率可達(dá) 220W/mK，熱膨脹系數(shù)* 4.03×10??/℃，與硅晶圓熱特性高度匹配，有效避免高溫下因熱應(yīng)力導(dǎo)致的晶圓翹曲。內(nèi)部嵌入鎢制加熱元件，經(jīng)共燒工藝實現(xiàn)緊密結(jié)合，加熱面溫度均勻性控制在 ±1℃以內(nèi)，工作溫度上限提升至 800℃，遠(yuǎn)超傳統(tǒng)鋁合金加熱盤的 450℃極限。表面經(jīng)精密研磨拋光處理，平面度誤差小于 0.01mm，可耐受等離子體長期轟擊無損傷，在晶圓退火、氧化等高溫工藝中表現(xiàn)穩(wěn)定，為國產(chǎn)替代提供高性能材質(zhì)解決方案。電熱轉(zhuǎn)換效率高，降低運(yùn)營成本，實現(xiàn)綠色生產(chǎn)。高精度均溫加熱盤非標(biāo)定制

無錫國瑞熱控 PVD 工藝**加熱盤，專為物***相沉積環(huán)節(jié)的嚴(yán)苛溫控需求設(shè)計。作為晶圓加工的**載體與射頻回路下電極，其采用陶瓷與高純金屬復(fù)合基材，經(jīng)精密研磨確保加熱面平面度誤差小于 0.02mm，為薄膜均勻生長提供穩(wěn)定基底。內(nèi)部螺旋狀加熱元件與均溫層協(xié)同作用，使晶圓表面溫度均勻性控制在 ±1℃以內(nèi)，適配 6 英寸至 12 英寸不同規(guī)格晶圓。設(shè)備整體采用無揮發(fā)潔凈工藝處理，在高真空環(huán)境下無雜質(zhì)釋放，搭配快速升溫技術(shù)（升溫速率達(dá) 30℃/ 分鐘），完美契合 PVD 工藝中對溫度穩(wěn)定性與生產(chǎn)效率的雙重要求，為半導(dǎo)體薄膜制備提供可靠溫控支撐。中國香港晶圓加熱盤生產(chǎn)廠家寬泛工作溫度范圍，滿足低溫烘烤到高溫?zé)Y(jié)不同需求。

面向深紫外光刻工藝對晶圓預(yù)處理的需求，國瑞熱控配套加熱盤以微米級溫控助力圖形精度提升。采用鋁合金基體與石英玻璃復(fù)合結(jié)構(gòu)，加熱面平面度誤差小于 0.01mm，確保晶圓與光刻掩膜緊密貼合。通過紅外加熱與接觸式導(dǎo)熱協(xié)同技術(shù)，升溫速率達(dá) 15℃/ 分鐘，溫度調(diào)節(jié)范圍 60℃-120℃，控溫精度 ±0.3℃，適配光刻膠軟烘、堅膜等預(yù)處理環(huán)節(jié)。表面經(jīng)防反射涂層處理，減少深紫外光反射干擾，且具備快速冷卻功能，從 120℃降至室溫*需 8 分鐘，縮短工藝間隔。與上海微電子光刻機(jī)適配，使光刻圖形線寬偏差控制在 5nm 以內(nèi)，滿足 90nm 至 28nm 制程的精密圖形定義需求。

國瑞熱控依托 10 余年半導(dǎo)體加熱盤研發(fā)經(jīng)驗，提供全流程定制化研發(fā)服務(wù)，滿足客戶特殊工藝需求。服務(wù)流程涵蓋需求分析、方案設(shè)計、原型制作、性能測試、批量生產(chǎn)五大環(huán)節(jié)，可根據(jù)客戶提供的工藝參數(shù)（溫度范圍、控溫精度、尺寸規(guī)格、環(huán)境要求等），定制特殊材質(zhì)（如高純石墨、氮化硅陶瓷）、特殊結(jié)構(gòu)（如多腔體集成、異形加熱面）的加熱盤。配備專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊（含材料學(xué)、熱力學(xué)、機(jī)械設(shè)計工程師），采用 ANSYS 溫度場仿真軟件優(yōu)化設(shè)計方案，原型樣品交付周期**短 10 個工作日，且提供 3 次**方案迭代。已為國內(nèi)多家半導(dǎo)體設(shè)備廠商定制**加熱盤，如為某企業(yè)開發(fā)的真空腔體集成加熱盤，實現(xiàn)加熱與勻氣功能一體化，滿足其特殊制程的空間限制需求。重視客戶反饋，持續(xù)改進(jìn)產(chǎn)品服務(wù)，體驗專業(yè)高效合作。

國瑞熱控光刻膠烘烤加熱盤以微米級溫控精度支撐光刻工藝，采用鋁合金基體與陶瓷覆層復(fù)合結(jié)構(gòu)，表面粗糙度 Ra 小于 0.1μm，減少光刻膠涂布缺陷。加熱面劃分 6 個**溫控區(qū)域，通過仿真優(yōu)化的加熱元件布局，使溫度均勻性達(dá) ±0.5℃，避免烘烤過程中因溫度差異導(dǎo)致的光刻膠膜厚不均。溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋 60℃至 150℃，升溫速率 10℃/ 分鐘，搭配無接觸紅外測溫系統(tǒng)，實時監(jiān)測晶圓表面溫度并動態(tài)調(diào)節(jié)。設(shè)備兼容 6 英寸至 12 英寸光刻機(jī)配套需求，與 ASML、尼康等設(shè)備的制程參數(shù)匹配，為光刻膠的軟烘、堅膜等關(guān)鍵步驟提供穩(wěn)定溫控環(huán)境。加熱盤及配套一站式，省時省心，長期可信賴供應(yīng)商。徐匯區(qū)陶瓷加熱盤非標(biāo)定制

表面特殊處理，耐腐蝕易清潔，適用化學(xué)食品領(lǐng)域。高精度均溫加熱盤非標(biāo)定制

面向半導(dǎo)體實驗室研發(fā)場景，國瑞熱控小型加熱盤以高精度與靈活性成為科研得力助手。產(chǎn)品尺寸可定制至 10cm×10cm，適配小規(guī)格晶圓與實驗樣本的加熱需求，溫度調(diào)節(jié)范圍覆蓋室溫至 500℃，**小調(diào)節(jié)精度達(dá) 1℃。采用陶瓷加熱元件與鉑電阻傳感器組合，控溫穩(wěn)定性達(dá) ±0.5℃，滿足材料研發(fā)中對溫度參數(shù)的精細(xì)控制。設(shè)備支持 USB 數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能，可實時記錄溫度變化曲線，便于實驗數(shù)據(jù)追溯與分析。整體采用便攜式設(shè)計，重量* 1.5kg，且具備過熱保護(hù)功能，當(dāng)溫度超過設(shè)定閾值時自動斷電，為半導(dǎo)體新材料研發(fā)、工藝參數(shù)優(yōu)化等實驗工作提供可靠溫控工具。高精度均溫加熱盤非標(biāo)定制

無錫市國瑞熱控科技有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢想有朝氣的團(tuán)隊不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍(lán)圖，在江蘇省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念，市場是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，齊心協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來無錫市國瑞熱控科技供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來，即使現(xiàn)在有一點小小的成績，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點燃新的希望，放飛新的夢想！